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01
2026-08
星期 六
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广州多层磁控溅射镀膜 广东省科学院半导体研究所供应
针对深紫外光电子器件的材料需求，研究所开展了磁控溅射制备AlN薄膜的专项研究。借鉴异质外延技术思路，在不同晶面取向的蓝宝石衬底上采用反应磁控溅射沉积AlN薄膜，并结合高温退火工艺优化晶体质量。研究发现，经1700℃退火后，c面蓝宝
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01
2026-08
星期 六
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广州真空磁控溅射平台 广东省科学院半导体研究所供应
磁控溅射沉积的薄膜具有优异的机械性能和化学稳定性。首先，磁控溅射沉积的薄膜具有高密度、致密性好的特点，因此具有较高的硬度和强度，能够承受较大的机械应力和磨损。其次，磁控溅射沉积的薄膜具有较高的附着力和耐腐蚀性能，能够在恶劣的环境下
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01
2026-08
星期 六
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广州直流磁控溅射特点 广东省科学院半导体研究所供应
在磁控溅射靶材的回收与再利用领域，研究所开发了环保型再生工艺。针对废弃靶材的成分特性，采用机械研磨与化学提纯相结合的预处理方法，去除表面氧化层与杂质，再通过磁控溅射原理进行靶材再生——将提纯后的材料作为靶材，通过溅射沉积于新的衬底
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01
2026-08
星期 六
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广州多层磁控溅射方案 广东省科学院半导体研究所供应
在第三代半导体材料制备中，该研究所通过单步磁控溅射工艺实现了关键技术突破。针对蓝宝石衬底上GaN材料生长时氧元素扩散导致的n型导电特性问题，研究团队创新性地采用磁控溅射技术引入10nm超薄AlN缓冲层，构建高效界面调控机制。终制备
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2026-07
星期 五
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广州脉冲磁控溅射技术 广东省科学院半导体研究所供应
金膜磁控溅射服务致力于为科研机构和企业提供全流程的金属薄膜制备支持，包括工艺开发、样品加工及技术咨询。该服务基于磁控溅射原理，通过控制入射粒子与靶材碰撞及溅射过程，实现高质量金膜的沉积。服务内容涵盖从工艺参数优化、设备调试到薄膜性
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